硅橡膠產(chǎn)品的的表面處理工藝是非常重要的，因為硅膠含有靜電，這使產(chǎn)品極易吸附灰塵，雜質(zhì)等等，那么要生產(chǎn)出另客戶滿意的產(chǎn)品，怎樣解決硅橡膠產(chǎn)品的靜電問題呢？接下來開順達小編就來帶大家了解下！

  受靜電影響，一般硅膠簡略沾塵，廠商若以傳統(tǒng)化學涂層方法，防塵及潤滑涂層成效只可維持數(shù)個月。好的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性，將負極硅膠表面改為正極，進程中運用無害的有機化學品，不會排出污染廢料，因此是清潔生產(chǎn)工藝。其較低靜電量特質(zhì)，防塵成效高，適用于手表表帶等，亦可用于醫(yī)療設(shè)備。

  等離子體表面處理技術(shù)適用于纖維、聚合物和塑膠等物料，亦可應(yīng)用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷資料的表面部分，改動資料表面的物理特征。硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝，可有用處理硅膠靜電、簡略沾塵問題，延伸產(chǎn)品壽數(shù)，是—種硅膠表面處理工藝。它可應(yīng)用于全部硅膠及相關(guān)產(chǎn)品。

  高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)(HPPMS)是結(jié)合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新式磁控濺射系統(tǒng)。在鍍層進程上，電源扮演重要的人物，選用「高能量」和「脈沖式」的放電方法，可于少于2微秒的短時間，宣告高達1500V輸出電壓的健壯能量，猶如閃電現(xiàn)象。由于進程中開釋許多的離子，消除鍍膜的內(nèi)應(yīng)力，因此可制成厚離子鍍層，無損產(chǎn)品或工件的表面。這種方法可跋涉離化率(lonizationRate)，即改進涂層在產(chǎn)品表面的附著力。

  高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)，能跨過傳統(tǒng)的磁控濺射方法，制作出高質(zhì)星多于3um的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方法有利添加離子的密度，不但加強鍍層與底材之間的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及削減替換次數(shù)。

  對裝飾性強的硅膠產(chǎn)品來說，可堅持外觀及更經(jīng)用，因此以高能量脈沖式制作鍍層，能有用運用等離子體，然后操控涂層的結(jié)構(gòu)，其特點是可沉積在潤滑細密的微細結(jié)構(gòu)，前進耐腐蝕性及表面光潔度。又或是可沉積在凌亂的幾何工件之上，達致更均勻的涂層。